anon在这个研发方向上占有绝对的技术优势，不过作为世界头部级企业，他们这几年几十亿美元的投资和现在拿到的诸多技术专利，正是说明这条路的可行性。”
萧扬明说道：“如果选择跟进这条路，对于其余所有的企业来说都是一条最愚蠢决定，这等于是砸进去几十亿美元，制造出来一种就算是能够研制成功，但是很有可能就像之前的PAS2000，2500那种有产品没市场的商品，这么大的损失，这些股东除非疯了才会同意。要么也可以，Sematech（m国半导体制造技术联盟）中的m国机构，真金白银的掏出来这几十亿，想要EUV-LLC联盟投资，根本就没有任何的可能。”
“也就是说Sematech美方非企业组织，对157nm纯氮气干式技术感兴趣？”
赵长安说道：“这和他们花这么大的力气，甚至把硅谷集团（SVG）也出售给ASML的初衷不符。”
“MIT（麻省理工学院林肯实验室），得州大学，m国国防部、能源部、国家实验室、国家科学委员会、国家标准及技术院，都一直在游说ASML，进行这个方向的技术推进。”
萧扬明说道：“第二个方向就是进行157nm的液体介质浸没式光刻，这个方向的风险性太大，几乎等于要把原来已经成熟的193nm干式架构全部推到重新架构，这个方案虽然也有一定的呼声，不过并不大，至少在目前技术水平下，还有着太多的障碍没法攻克。而且无论是时间的跨度还是海量的投资，都能让人窒息。然而几乎所有真正懂得步进机原理的都知道，157nm进程早晚都要面对，即使现在规避，可等到摩尔定律到了时间压缩的极限，还是最终需要重启。”
“在这两种方案的对比下，Sematech美方非企业组织显然觉得，ASML可以和Nikon和Canon进行同质化研发，这样至少可以保持住ASML在光刻机领域的世界前三强的位置，制约东洋。”
在90年ASML推出PAS5500之前，ASML在全球光刻机领域的市场份额，几乎可以忽略不提，而且自从成立起就一直处于亏损状态，整整亏损了六年。
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