是好选择。”陈学兵摇头：“X86太复杂，MIPS太蠢，我们的手机系统就是针对Arm架构开发的，没有第二个选择，其实Arm也应该知道，我们同样是他们展现价值的平台，合作对双方都有利，达成合作意向只是前期要做的事情，而谈判的主流程，应该是双方如何共同应对英国政府的管控，其实真正的问题是…”
“是什么？”
陈学兵长叹道：“芯片制造的问题，道阻且长啊…”
要不是因为这个，他也不必像现在这样，逮到什么都想赚一笔。
芯片制造的投资，太大了。
3G基金倒是为了芯片制造的投资而筹备的，接下来一年在股市赚的钱或许可以顶一顶，但也肯定不够用多久。
而且基金的钱他不能无限制的往芯片里砸，还要考虑回报问题。
资金是一方面，投资方式又是一方面。
现在他拥有的有利条件就是，荷兰光刻机还没有成为唯一选择。
他现在信息来源越来越多，对芯片制造这样的高端领域了解也逐渐深入，据他最近得到的消息，佳能的ArF干式光刻机目前已经可以做到稳定制造90nm，尼康也搞出了浸没式光刻机NSR-S609B，通过暴力双重曝光和分辨率增强技术，理论可以做到55nm。
只是比起ASML的浸没式技术，良率太低，才40%不到，完全没有达到生产价值。
ASML的浸没式光刻机可以把可用分辨率压缩1.5倍左右，理论上可以达到38nm，台积电现在已经能稳定制造65nm，良率可达90%以上。
现在日本在搞邪修，一心通过多重曝光技术提升极限，阿斯迈尔在搞正统修炼，通过提升显微镜的放大能力和转变光刻机的物理规则来增加基础制程。
不过两种方式都有技术限制，两边现在打得有来有往，还没有达到存在制程代差的地步。
ASML的EUV（极紫外光）光刻机完成了工程化突破，首台预生产机NXE:3100已经面世，不过稳定性非常差，日均宕机6次，同样没有生产价值。
要等到EUV光刻机的量产，才是真正的掀桌子。
桌子只要没掀，哪怕只差一代，光刻机只要还存在竞争，中国芯片制造都还可以找到漏洞
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