曝光技术正好跟上，用来解决fnft的图形化难题；至于20nm，本来就是过渡节点，为什么要浪费时间？」
他顿了顿，补充道：「你担心的专用设备，aml目前的t1900通过双重曝光能把线宽压到28nm以下，只要解决套刻精度问题，就能满足14nmfnft的光刻需求，我在台积电主导65nm时，就用193nm光刻机做过类似尝试，良率能从30%提到70%，现在的设备比当时更先进，没理由做不到。」
「材料是花钱能解决的问题，那就不是问题。我在台积电的老部下里，有专门做材料适配的团队，只要你肯出溢价，他们能通过的渠道拿到样品，量产之前用不了多大的量，而且三星的32nm材料供应链可以借鉴，看你能不能拿到。」
梁孟松实在耿直，几句话便把路径给说完了。
他语速太快，像那种尖子班的数学老师，理所当然地觉每个人都该听懂一般，根本不给陈学兵消化的间隙，搞陈学兵全力以赴也没太听明白。陈学兵只能感叹：梁孟松，神人也。
只是随口而出，就把每一个节点的突破点都说到了，甚至包括目前全世界都没有突破的节点。
具体有多神？
就他刚才随口说到的一个点，「65nm良率从30%提升到70%」，是整个中芯国际干了大半年都没有实现的。
没理由做不到？
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中芯国际全体科研人员听了都要吐血三升。
在梁眼里，追制程可能就没有困难，每个节点的突破如探囊取物一般。
说说不算牛逼，关键是人家真的能做。
但随即，陈学兵脑子里瞬间出现了一连串疑问。
「既然你这么笃定fnft可行，又认为五年就能突破到量产，为什么不说服台积电选你的路？台积电不可能一点紧迫感都没有吧？」
「因为不划算。」梁孟松抱起手，缓缓说道：「胡正明2001年就担任台积电第一任t，带来了fnft的想法，但这需要全新设备、全新工艺、全新设计规则，投资是平面工艺的2-3倍，所以直到他2004年离任，台积电仍坚持以平面mft为主，并且和aml联合开发出了浸没式光刻机，算是走通了平面叠代的路。
「张忠谋的
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