均差，你们已经做到1.5μm了？”高振东语含惊喜。
移动标准差决定了光刻线宽，移动平均差会影响套刻精度，这两个指标，是高振东在这一块最看重的，而别的指标都往后稍稍。
易中海和所有的师傅对望一眼，面带自豪。
“是啊，我们搞了一下子，大家合计了一下，觉得以手上的条件，加把劲，其实能搞得更好。于是大家各自想办法，拼了老命的把这个降到了1.5，想来对你们来说，应该是有用的。”话说得朴实简单，但是其中过程的艰辛应该是不少。
看着易中海在工件台上一阵操作，现场的验证了1.5μm的运动精度，高振东一拍大腿：“这可太有用了！各位师傅，这么说吧，你们已经实现了我下一步想要达到的精度目标，是大跨了一步啊！谢谢你们！”
说完，高振东后退一步，给大家行了个礼，然后抬起头来。
“各位师傅，我在此宣布，特种工艺工件台课题，原理样机基本成功，可以转入下课题研究的下一阶段，谢谢所有参与者的辛勤劳动和艰苦付出。”
各位师傅齐齐鼓掌，这位高总工为人，那真是没得说。
对于高振东来说，这两个指标达到了1.5μm，至少在工件台一块，就能支撑住5~8μm的线宽制程，这大大的超出了原本的预期，加快了设想中的进度。
而工件台的解决，意味着掩膜台也得到了解决，两者在结构和功用上是高度相似的，只是一个放掩模，一个放硅片。至于光学系统，基本是不动的，那玩意精贵着呢，调整好了就别动了，让掩模和工件自己动才是正理。
高振东抬起头来，招呼秦怀茹：“秦师傅，麻烦你一下，你到三分厂厂办，叫他们通知总厂宣传处的同志过来一下。”
直接叫秦怀茹的原因，是因为这里他熟悉的只有易中海两师徒，这种跑腿的事情，自然不太好叫易中海去做，那就只有辛苦一下秦怀茹了。
秦怀茹应了一声出去了，高振东笑道：“各位师傅，这个事情虽然前面要走的路还长，但是这个喜讯，我们至少在厂内还是要好好报道一下的。”
(本章完)