，就是这种工艺了。
看来要搞的事情，还不少啊。
这就回到了前世在网上互喷的时候，最常见的话题——光刻机。
光刻机是一定要搞的，这是其中最重要的一個工序，没有这个，其他的CVD、PVD、气体扩散、蒸镀、掺杂这些技术都会失去意义。
从原理上来说就是，通过光刻技术，可以实现在指定区域进行掺杂、蚀刻、导线连接、形成工作结构等操作。
严格说来，说“光刻机在硅片上刻出电路”是不对的。光刻本身是刻不出PN结，也形不成电路的，光刻只是为PN结、导线连接、内部元件的按要求产生，提供了一个条件，它刻出的，是电路的雏形，以及提供保护。
就有点点类似我们在对工件喷漆的时候，会用报纸把工件上不需要喷漆的部分保护起来，仅此而已。
但是没有这个保护，结果就好像在没有盖报纸的工件上喷漆，控制得再好，也会喷到不需要的地方去，这工件就废了，更别说在硅片这小的螺蛳壳里做道场了。
不过光刻机这玩意，高振东现在根本就不去想什么紫外、极紫外光刻，浸润光刻，多次曝光这些鸟玩意，整个技术环境根本支撑不了的。
他要搞的，就是用自己亲手做出来的现成的东西——激光光刻，同时光刻制程，他根本就不去想多少纳米，连微米级别都嫌高。
对他来说，甚至只要亚毫米级别的就好，也就是100微米到10微米这个级别，能在1平方厘米的面积上，放下十来个乃至几十个晶体管就行。
可别小看这个密度，已经能做很多事情了，尤其是对于DJS-60D乃至他规划中的二代高性能计算机来说。
而且搞数字电路的都知道，有了合适的数字电路芯片，哪怕没有计算机，也能玩儿出很多花活，用简单的代价，实现很多控制需求了。
对于这个制程精度，随便什么激光，其波长都是足够小了，功率也比较容易实现。
至于极紫外光刻机，那是由于光刻制程小到一定程度的需求，而且功率很难做大，这时候想那玩意完全是做梦呢。
至于亚毫米精度的光刻能不能实现，高振东还是有一定信心的，大不了请相关单位手搓几套光路系统，光源自己上就行，他可
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