天堑以下的光刻机？
新生的EUVLLC联盟则押注更激进的极紫外技术，在对未来的展望是用仅有十几纳米的极紫外光，刻十纳米以下的芯片制程。
也就是说，ASML现在正在研发的193nm制程以下的光刻机，使用极紫外技术，是光刻机领域一个新的征程的起点。
正在做着从零到一，从虚无到实质的尝试性跃迁。
假如能够成功，那么再从一到二，从二到三，则是顺理成章的依次类推递进。
而尼康想要研发的157nmF2激光光刻机，则是一个垂垂老矣回光返照式的最后的荣光尊严和骄傲，之后则要面对着157nm制程的极限天堑无法跨越，则是注定被扫进时光的垃圾桶里面。
这里面按道理孰优孰劣，已经是一目了然。
但是尼康所要做的事情，有着很大的成功性，然而ASML集中数百亿资金押注极紫外光，无异于是一场世纪豪赌。
赢了大家都去会所嫩模，输了都去砖窑搬砖下苦力，虽然两者干的都是体力活，然而一个是男人的天堂，一个是男人的炼狱。
在赵长安的这个时代，历史上的一些微小细节还是和他记忆中的前一世有着细微的差别。
那个在赵长安的那个时空里面，拿着自己的那一套‘沉浸式光刻’理论，跑遍世界一流的光刻机企业的林博士，在这个时空却因为突然发了财，又遇到了自己的真爱，整天享受着快乐的夫妻生活，根本就没有想到这个方法。
假如想要降低光的波长，光源出发是根本方法，水会影响光的折射率——在透镜和硅片之间加一层水，原有的193nm激光经过折射，不就直接越过了157nm的天堑，降低到132nm？
也就是说，现在在这个世界上，只有赵长安一人知道这个‘沉浸式光刻理论’！