第2084章沉浸式光刻理论
这个想法当然也和赵长安的想法不谋而合，所以他当然是热烈的鼓掌。
只有苏博，南鹂这些研发人员才知道，牛比好吹，可很多的事情想要真正的实现，可真不容易。
只是一个集成电路设计中心，想要达到设计的世界前沿性，都需要集中成百上千一流的工程师们常年持之以恒不懈的努力，然而就算是能够做到这些，也只是有了一种成功的可能。
要知道你才在呀呀学步，可别人也都没有闲着，都在大步的奔跑，甚至在飞。
而且这还只是集成电路设计这一环节，现在江城这边和赵长安居然不知道天高地厚的提出来这么多不可思议，匪夷所思的要求和想法，简直就颠覆了他们两个的三观。
说文雅一点就是三观节操尽碎！
先别说别的，只是这个光科技，就是一百个一纳米卖掉的钱，都不一定足够资金的投入。
而且就算投入了，成功的可能性也不大。
而且就算是侥幸成功了，制造出来合格的光刻机，有着尼康，GCA，Siemens（西门子），KasperInstruments，佳能，库力索法，PerkinElmer，——
怎么看苏博和黄鹂都认为，在自由市场的竞争下，都是毫无胜算，完全属于拿着几十亿甚至上百亿的资金，去做别人已经重复做过的事情，完全就是在扔钱！
——
英特尔创始人之一戈登·摩尔(GordonMoore），在1965年4月，提出来了一个著名的叫做摩尔定律的产业规范。
集成电路上可容纳的元器件的数量，每隔18至24个月就会增加一倍(相应的芯片制程也会不断缩小)，也会带来一次芯片性能性能的飞跃，这一增长率至少在未来十年内几乎维持，为一个常数。
这是对芯片设计的要求，但同时也在要求光刻机的必须领先设计环节一步，交付出相应规格的设备来。
光刻机的本质其实与投影仪+照相机差不多，以光为刀，将设计好的电路图投射到硅片之上。
在78年以前，光刻机一直都是欧美这些西方国家垄断占据着绝大多数的市场份额，然而随着对芯片制程的尺寸要求越来越小，这些企业在光影上面的准
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