再投资，任其自生自灭。
ASML趁着飞利浦留下的大量空房子，才有了自己真正像一点样子的办公和研发场所，然后用了一年时间，背水一战似的推出了PAS5500光刻步进机，采用i-line光源，初始分辨率为0.35微米（350纳米）。
随着第一部PAS5500被IBM购买，用于System/390服务器的芯片制造，在ystem/390热卖以及证明了PAS5500的稳定性，以及有着低成本，小尺寸，简单易用等特点以后，来自全世界各地大量的订单开始把ASML淹没。
而且这个一代神机直到二十年以后赵长安穿越过来的时候，在长达三十多年的时间里，虽然PAS5500早已停止生产，可经过ASML卖出去的PAS5500依然有超过90%的光刻机在投入使用，用于制造线宽微缩要求不高细分类半导体芯片。
之后数年，随着ASML不断的对PAS5500进行技术改良和升级，引入更高分辨率的i-line、氟化氪（KrF）和氟化氩（ArF）系统，老东家飞利浦也是赚钱赚的合不拢嘴。
在97年的时候，由飞利浦的牵线，以及欧美半导体产业迫切想要摆脱东洋半导体产业的依赖，老美也盯上了ASML这块肥肉，随着众多企业投资加入，以及成功的在阿姆斯特丹和哥谭市证券交易所上市，ASML开始研究极紫外线，到了99年ASML极紫外线光刻机研发联盟成立，第二年财大气粗的ASML收购了美国光刻机制造商硅谷集团（SVG），在原来的拳头产品PAS5500之外，进入更细微的193纳米领域。
在去年年底的全球SPIE微光刻会议上，由于Nikon和Canon的强势，157nm深紫外激光波（DUV）步进式光刻机的研发主流方向，依然是处于纯氮气中的技术改良。
而没有提倡尝试157nm深紫外激光波，在液体浸没状态下的浸没式光刻技术。
从会议之后到现在，整个ASML的研发部门，依然是各种争吵中，对于157nm浸没式研发是否开始，有着极大的分歧。
“目前的问题是，如果选用157nm纯氮气环境中的研
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